← 返回 AI Time2026年9月8日ASMLTSMCSamsungIntelHuaweiASML获得三星、台积电和英特尔采用新光掩膜,华为加速打破其垄断商业资本次要ASML推动三星、台积电和英特尔采用更大光掩膜,使新一代EUV光刻机吞吐量提升约40%;华为则主导中国的反制战略,寻求摆脱对荷兰光刻技术的依赖。来自 the-decoder.com ↗相关事件2026年9月8日ASML宣布与三星、台积电推进High NA EUV量产合作,三星确认2028年导入2026年9月2日ASML High NA EUV累计曝光超135万片晶圆,10台客户系统投运相关主体ASML查看时间线 →TSMC查看时间线 →Samsung查看时间线 →Intel查看时间线 →Huawei查看时间线 →